В данной работе автор применил приём эклектики, совместив на одном листе стилизованное реалистичное изображение и сугубо формальный, близкий к абстракции, фонмир — сочетание линий и пятен, предоставив зрителю возможность определиться в ассоциациях, которые вызовет в его воображении этот сумбур.
Симбиоз линии и пятна
Время создания
2017
Размер
45x50 см
Техника
Бумага, тушь, кисть, линер
Выставка
0
Открыть в приложении#1
Олег Базылев
Симбиоз линии и пятна
#2
читать дальшескрыть
Симбиоз линии и пятна
Время создания
2017
Размер
45x50 см
Техника
Бумага, тушь, кисть, линер
Выставка
0

Открыть в приложении
Поделиться